氮化硅物理性质：不溶于水。溶于氢氟酸。在空气中开始氧化的温度1300~1400℃。比体积电阻，氮化硅，20℃时为1.4×105 ·m，500℃时为4×108 ·m。弹性模量为28420~46060MPa。耐压强度为490MPa（反应烧结的）。
氮化硅物理性质：1285℃时与二氮化二钙反应生成二氮硅化钙，氮化硅制造，600℃时使过渡金属还原，氮化硅加工，放出氮氧化物。抗弯强度为147MPa。可由硅粉在氮气中加热或卤化硅与氨反应而制得。电阻率在1015-1016Ω.cm。可用作高温陶瓷原料。
氮化硅物理性质：莫氏硬度9~9.5，维氏硬度约为2200，显微硬度为32630MPa。熔点1900℃（加压下）。通常在常压下1900℃左右分解。比热容0.71J/(g·K)。生成热为-751.57kJ/mol。热导率为（2-155）W/(m·K)。线膨胀系数为2.8~3.2×10-6/℃(20~1000℃)。
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