氮化硅物理性质:不溶于水。溶于氢氟酸。在空气中开始氧化的温度1300~1400℃。比体积电阻,氮化硅多少钱,20℃时为1.4×105 ·m,500℃时为4×108 ·m。弹性模量为28420~46060MPa。耐压强度为490MPa(反应烧结的)。
如果要在半导体基材上沉积氮化硅,有两种方法可供使用:
1.利用低压化学气相沉积技术在相对较高的温度下利用垂直或水平管式炉进行。
2.等离子体增强化学气相沉积技术在温度相对较低的真空条件下进行。
氮化硅的应用:氮化硅用做高级耐火材料,湖北氮化硅,如与sic结合作SI3N4-SIC耐火材料用于高炉炉身等部位;如与BN结合作SI3N4-BN材料,用于水平连铸分离环。SI3N4-BN系水平连铸分离环是一种细结构陶瓷材料,氮化硅冶金,结构均匀,具有高的机械强度。耐热冲击性好,又不会被钢液湿润,符合连铸的工艺要求。
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